COSMIC掩星电子密度廓线的质量检核

利用COSMIC掩星任务自2010年至2014年的电离层电子密度廓线,使用只考虑廓线自身特性的4种参数进行质量检核,并对廓线质量的时空分布进行分析。发现在廓线质量的空间分布上,廓线不合格率在高纬地区最高,其次是低纬地区,在中纬地区最低,这可能与电子密度分布在磁赤道附近存在赤道异常、两极地区的磁场强度最大有关。廓线质量的季节变化较明显,在南、北半球,冬、春两季的廓线不合格率均显著高于夏、秋两季。另外,廓线质量具有一定昼夜分布特性,不合格率白天明显较夜晚低,且在晨昏分界线上变化较大。合格廓线的电子密度峰值和峰值高度分布在磁赤道附近明显高于其他区域,呈现"双驼峰"现象。     

一种自适应频率调节器的设计和分析

本文阐述了一种自适应频率调节器的电路组成及主要部分的工作原理。由于在幅压条件下调频精度与并联运行稳定性之间存在矛盾,本文采用了变结构控制的方案,并从电路上加以实现,从而有效地解决了这一难题。     

薄膜晶体管液晶显示器对空间光调制模式与偏振器方向的关系

薄膜晶体管液晶显示器TFT LCD(Thin Film TransistorLiquidCrystalDevice)是信息光学研究中一种非常重要的电寻址空间光调制器SLM(SpatialLightModulator)。实验中通过调整TFT LCD的起偏器或检偏器的方向,可以分别得到正像、边缘暗突出像、负像等,并结合具有双折射特性的线性扭曲液晶介质对线偏振光的调制理论,对此给出解释。     

小口径舰炮武器系统作战效能评估模型研究

通过对小口径舰炮武器系统的分析,建立小口径舰炮武器系统作战效能评估指标体系,得到基于"串/并联"模型框架的作战效能评估A.D.C扩展模型E=A.D.C.S.通过某型小口径舰炮武器系统的实例计算验证了模型的正确性,并得出分析结论.     

影响《轻武器射击》教学效果的几个问题及对策

从素质教育的角度出发,结合几年来从事轻武器射击教学的实践,针对轻武器教学中存在的问题,从心理训练、教学方法、关键环节等3个方面,论述了问题产生的原因及基本对策,对于改进实践课教学,具有积极的现实意义。     

基于支持向量机的彩色图像恢复新方法

引起图像退化的因素众多,因而难以用一个统一的方法来进行恢复处理。鉴于图像的像素和各颜色分量通道间本质上存在某种相关性,以及以支持向量机为核心的统计学习理论具有较好地解决小样本、非线性、高维数问题的能力,提出了一种新的空域图像恢复方法,并通过对来自于待处理图像本身的训练样本的学习,构造自适应的回归插值函数;然后基于该函数对图像作有选择的修改,从而达到图像恢复的目的。实验表明,该方法是有效的,并且具有较好的泛化性能。     

运动载体涡流磁场数值计算与特性分析

为提高运动载体涡流磁干扰建模与补偿的精度,对载体运动引起的涡流磁场的产生机理和分布特性进行分析研究。首先,对涡流磁场的产生机理进行了溯源分析;然后,采用有限元法对涡流磁场进行数值计算研究。考虑到计算空间包含结构的磁导率单一问题,采用了有限元节点法矢量磁位计算方式,并针对舱体壁计算单元,考虑了耦合积分电势自由度,同时考虑到磁场周期变化,采用了瞬态有限元计算方式;最后,通过数值计算分析,揭示了运动载体涡流磁场与外磁场变化频率的关系,并分析了涡流磁场沿径向和轴向的空间分布特性和传播规律,为运动载体涡流磁场干扰的高精度建模与补偿奠定了基础。     

基于多点空间直线拟合的调炮精度检测方法

针对火炮身管上标记两个点检测调炮精度受制于单个空间点坐标测量精度的问题,提出通过增加身管上标记点的冗余数量来提高调炮精度的检测方法。应用最小二乘原理对多个空间点进行直线拟合,并采用Monte Carlo方法对身管指向的测量精度进行分析。结果表明:标记4个点、5个点、6个点和7个点与标记2个点(传统方法)相比,其身管指向的测量精度分别提高了约6%、18%、19%和21%。该方法适用于对调炮精度检测要求较高的场合,综合考虑工作效率和测量精度这两个因素,推荐标记5个点测量身管指向。     

R-C系统中由表面散射引起的视场内杂散光分布

推导了R-C系统焦平面上由主镜和次镜表面散射引起的视场内杂散光分布的近似解析表达式.针对典型R-C系统的视场内杂散光分布,由近似表达式得到的计算结果与利用商业光学仿真软件得到的模拟结果具有较好的一致性,说明了近似表达式的正确性.与焦平面上无像差衍射光分布相比较,可以方便地分析强光入射时R-C系统焦平面上不同区域的饱和机制.研究结果表明,对于典型的R-C系统,探测器表面上以几何像点为中心,半径为2.5mm的范围内,衍射光是引起探测器饱和的主要因素;在此范围外,表面散射造成探测器的饱和.该结果为进一步研究强光饱和实验,解释有关现象提供理论分析基础.     

A spatial rank‐based multivariate EWMA control chart

Nonparametric control charts are useful in statistical process control when there is a lack of or limited knowledge about the underlying process distribution, especially when the process measurement is multivariate. This article develops a new multivariate self‐starting methodology for monitoring location parameters. It is based on adapting the multivariate spatial rank to on‐line sequential monitoring. The weighted version of the rank‐based test is used to formulate the charting statistic by incorporating the exponentially weighted moving average control scheme. It is robust to non‐normally distributed data, easy to construct, fast to compute and also very efficient in detecting multivariate process shifts, especially small or moderate shifts which occur when the process distribution is heavy‐tailed or skewed. As it avoids the need for a lengthy data‐gathering step before charting and it does not require knowledge of the underlying distribution, the proposed control chart is particularly useful in start‐up or short‐run situations. A real‐data example from white wine production processes shows that it performs quite well. © 2012 Wiley Periodicals, Inc. Naval Research Logistics 59: 91–110, 2012